其產生的薄膜的光譜透過波段為0.3~10um，是可見光到近紅外波段重要的高折射率材料之一，具有較高的折射率跟熱穩定性，
和低吸收及耐化學腐蝕的優點。廣泛應用於製備多種光學元件的減反膜，高反膜，分光膜和干涉濾光膜。
熔點接近1872℃，是一種高折射率的鍍膜材料，化學穩定性好且抗激光損傷能力強。
主要使用於光學濾鏡的鍍膜。
【相關下載: Ta2O5-材料規格簡介】
【相關下載: Ta2O5-物質安全資料表】
Ta2O5-五氧化二鉭
光學鍍膜材料-Ta2O5
常用型態為Granules(顆粒)和Target(靶材)。
詳細資訊
其產生的薄膜的光譜透過波段為0.3~10um，是可見光到近紅外波段重要的高折射率材料之一，具有較高的折射率跟熱穩定性，
和低吸收及耐化學腐蝕的優點。廣泛應用於製備多種光學元件的減反膜，高反膜，分光膜和干涉濾光膜。
熔點接近1872℃，是一種高折射率的鍍膜材料，化學穩定性好且抗激光損傷能力強。
主要使用於光學濾鏡的鍍膜。
【相關下載: Ta2O5-物質安全資料表】