各式離子源配件

各式離子源配件

詳細資訊

離子源的種類有數種,最常被使用的屬考夫曼型寬束離子源及其改良型。該種離子源結構上有多孔柵極,因此,多孔離子比早期單孔離子效能具有較寬且大的離子束流。它以電熱絲當陰極,且為有柵極之寬束離子源。
 

蒸發源或濺鍍源旁邊,另外加一個獨立的離子源(ion source),蒸發源可以是熱電阻蒸發源、電子槍蒸發源或其他方式蒸發源,濺鍍源可為磁控濺鍍或離子束助鍍。
 

離子束離子助鍍(Ion-beam Assisted Deposition. IAD)具有許多優點,薄膜在沉積過程中若動能不足則膜質不密、空隙多,加熱烘烤或離子束離子助鍍,可使膜質變密。
 

離子束鍍鍍對膜質的改善包括四點:

  1. 薄膜光譜性特別穩定
  2. 吸水性減少
  3. 折射率提高
  4. 粗糙度降低

離子源之能量(電壓及電流)也不能太大,如果過大會對成長膜做深入撞擊或把離子氣體(如氬氣)陷入膜層中,以致膜折射率反而會下降,均勻性也會變差。